Roles of a strain relaxation and an oxygen vacancy on nanoscale inhomogeneities in VO2 thin film

Autor:	M.S. Kim, S.H. Park, S. Choi, J. Kim, K.H. Lee, S.Y. Noh, B.N. Chae, S. Lee, B.J. Kim, J.S. Lee
Rok vydání:	2023
Předmět:	General Physics and Astronomy General Materials Science
Zdroj:	Current Applied Physics. 46:40-45
ISSN:	1567-1739
DOI:	10.1016/j.cap.2022.11.012
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::66409c51c139a3136d9e90e708110d13 https://doi.org/10.1016/j.cap.2022.11.012 Zobrazit plný text záznamu Full Text from ScienceDirect