Xe plasma FIB Delayering of IC based on 14 nm node technology

Autor:	Sharang, Marek Šikula, Andrey Denisyuk, Tomáš Hrnčíř, Jozef Vincenc Oboňa
Rok vydání:	2016
Předmět:	010302 applied physics Materials science Node (networking) 0103 physical sciences Nanotechnology 02 engineering and technology Plasma 021001 nanoscience & nanotechnology 0210 nano-technology 01 natural sciences Instrumentation
Zdroj:	Microscopy and Microanalysis. 22:56-57
ISSN:	1435-8115 1431-9276
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::6378f52ca6a8c8a7f826c6aefa5ef3d9 https://doi.org/10.1017/s1431927616001136 Zobrazit plný text záznamu