Multithreshold HF/DF Pulsed Laser Damage Measurements on Evaporated and Sputtered Silicon Films

Autor:	TM Donovan, SC Seitel, JO Porteus, P Kraatz
Rok vydání:	2009
Předmět:	Pulsed laser Materials science Silicon chemistry Analytical chemistry chemistry.chemical_element Sputter deposition Absorption (electromagnetic radiation) Evaporation (deposition)
DOI:	10.1520/stp37022s
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::623486fbeeee794cd673972431dfe6d4 https://doi.org/10.1520/stp37022s Zobrazit plný text záznamu