Интегральный наноэлектромеханический туннельный переключатель
Rok vydání: | 2023 |
---|---|
Předmět: |
Signal processing
Electrical circuits and systems Microelectronics Communications engineering not elsewhere classified Radio frequency engineering Electronics sensors and digital hardware not elsewhere classified Digital electronic devices Electrical engineering not elsewhere classified Other engineering not elsewhere classified Circuits and systems Engineering instrumentation Nanoelectromechanical systems |
DOI: | 10.25445/sfedu.23266556.v1 |
Popis: | 1. Интегральный наноэлектромеханический туннельный переключатель, содержащий полуизолирующую подложку, несущую балку, первый подвижный электрод, первый неподвижный электрод, подвижный электрод первого электростатического актюатора, неподвижный электрод первого электростатического актюатора, якорную область первого и второго подвижных электродов, контакт к первому и второму подвижному электроду, отличающийся тем, что в него введены основание первого неподвижного электрода, основание второго неподвижного электрода, основание первого электростатического актюатора, основание второго электростатического актюатора, якорная область второго подвижного электрода, технологический слой в области первого неподвижного электрода, технологический слой в области второго неподвижного электрода, технологический слой в области первого электростатического актюатора, технологический слой в области второго электростатического актюатора, несущий упругий подвес, контактная область первого неподвижного электрода, контактная область второго неподвижного электрода, контактная область первого электростатического актюатора, контактная область второго электростатического актюатора, контактная область первого и второго подвижных электродов, второй неподвижный электрод, неподвижный электрод второго электростатического актюатора, контакт ко второму подвижному электроду, подвижный электрод второго электростатического актюатора, второй подвижный электрод, основание упора для несущей балки, технологический слой упора несущей балки, область размещения упора для несущей балки, упор для несущей балки, П-образный вырез, дополнительный вырез, причем сформированная структура представляет собой SPDT-переключатель туннельного типа, реализующий однополюсную схему переключения на два направления, содержащий два туннельных контакта, первый из которых образован первым неподвижным электродом, примыкающим к контактной области первого неподвижного электрода, расположенной на технологическом слое в области первого неподвижного электрода, который примыкает к основанию первого неподвижного электрода, жестко закрепленному на полуизолирующей подложке, и первым подвижным электродом, примыкающим к несущей балке; а второй туннельный контакт образован вторым неподвижным электродом, примыкающим к контактной области второго неподвижного электрода, расположенной на технологическом слое в области второго неподвижного электрода, который примыкает к основанию второго неподвижного электрода, жестко закрепленному на полуизолирующей подложке, и вторым подвижным электродом, примыкающим к несущей балке, на которой выполнены два П-образных выреза и два дополнительных выреза таким образом, что они формируют две связанные по принципу двунаправленного рычага или качелей подвижные балки на упругих подвесах, на первой из которых выполнены первый подвижный электрод и подвижный электрод первого электростатического актюатора, а на второй выполнены второй подвижный электрод и подвижный электрод второго электростатического актюатора, и которая примыкает к несущему упругому подвесу; упругий подвес имеет U-образную форму и представляет собой сегмент цилиндрической оболочки, примыкающий одним концом к контактной области первого и второго подвижных электродов, контакту к первому и второму подвижным электродам и якорной области первого и второго подвижных электродов, и жестко закрепленный относительно полуизолирующей подложки, а незакрепленным вторым концом примыкающий к несущей балке; первый электростатический актюатор образован неподвижным отклоняющим электродом, примыкающим к контактной области первого электростатического актюатора, расположенной на технологическом слое в области первого электростатического актюатора, который примыкает к основанию первого электростатического актюатора, жестко закрепленному на полуизолирующей подложке, и подвижным электродом первого электростатического актюатора, примыкающим к несущей балке; второй электростатический актюатор образован неподвижным отклоняющим электродом, примыкающим к контактной области второго электростатического актюатора, расположенной на технологическом слое в области второго электростатического актюатора, который примыкает к основанию второго электростатического актюатора, жестко закрепленному на полуизолирующей подложке, и подвижным электродом второго электростатического актюатора, примыкающим к несущей балке. 2. Интегральный наноэлектромеханический туннельный переключатель по п.1, отличающийся тем, что несущий упругий подвес, технологический слой в области первого неподвижного электрода, технологический слой в области второго неподвижного электрода, технологический слой в области первого электростатического актюатора, технологический слой в области второго электростатического актюатора, технологический слой упора несущей балки выполнены из двухслойного материала таким образом, что поверхности, примыкающие к якорной области первого и второго подвижных электродов, основанию первого неподвижного электрода, основанию второго неподвижного электрода, основанию первого электростатического актюатора, основанию второго электростатического актюатора, основанию упора для несущей балки, образуют внешнюю поверхность упругого подвеса и соответственно сформированы из сжатой пленки арсенида индия второго типа проводимости, а поверхности, примыкающие к контактной области первого и второго подвижных электродов, контактной области первого неподвижного электрода, контактной области второго неподвижного электрода, контактной области первого электростатического актюатора, контактной области второго электростатического актюатора, области размещения упора для несущей балки, образуют внутреннюю поверхность упругого подвеса и сформированы из растянутой пленки арсенида галлия второго типа проводимости. |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |