Knihovna AV ČR, v. v. i.
Odhlásit
Přihlášení
Jazyk
English
Čeština
Instituce
Knihovna AV ČR
Souborný katalog AV ČR
Archeologický ústav Brno
Archeologický ústav Praha
Astronomický ústav
Biofyzikální ústav
Botanický ústav
Etnologický ústav
Filosofický ústav
Fyzikální ústav
Fyziologický ústav
Geofyzikální ústav
Geologický ústav
Historický ústav
Masarykův ústav
Matematický ústav
Orientální ústav
Psychologický ústav
Slovanský ústav
Sociologický ústav
Ústav analytické chemie
Ústav anorganické chemie
Ústav pro českou literaturu
Ústav dějin umění
Ústav fyziky atmosféry
Ústav fotoniky a elektroniky
Ústav fyzikální chemie J. H.
Ústav fyziky materiálů
Ústav geoniky
Ústav pro hydrodynamiku
Ústav chemických procesů
Ústav informatiky
Ústav pro jazyk český
Ústav jaderné fyziky
Ústav makromolekulární chemie
Ústav pro soudobé dějiny
Ústav přístrojové techniky
Ústav státu a práva
Ústav struktury a mechaniky hornin
Ústav teoretické a aplikované mechaniky
Ústav teorie informace a automatizace
Ústav výzkumu globální změny
Knihovna bude uzavřena od 23. 12. 2024 do 3. 1. 2025.
×
Všechna pole
Název
Autor
Hledat
Pokročilé vyhledávání
Zahrnout EIZ
Domovská stránka
Development of High Density In...
Jednotky
Navrhnout nákup titulu
Development of High Density Inductively Coupled Plasma Sources for SiH4/O2/Ar Discharge
Autor:
S.H. Bae
,
D.C. Kwon
,
N.S. Yoon
Rok vydání:
2008
Předmět:
Materials science
Materials Science (miscellaneous)
Inductively coupled plasma atomic emission spectroscopy
Analytical chemistry
High density
Electrical and Electronic Engineering
Physical and Theoretical Chemistry
Inductively coupled plasma
Condensed Matter Physics
Zdroj:
Journal of the Korean Vacuum Society
. 17:426-434
ISSN:
1225-8822
DOI:
10.5757/jkvs.2008.17.5.426
Databáze:
OpenAIRE
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::5d483b42a1b23230a4fd5fe96b1d1975
https://doi.org/10.5757/jkvs.2008.17.5.426
Zobrazit plný text záznamu
Jednotky
Popis
Exportovat záznam
Export to RIS
×
načítá se......