Properties of SiO2 Thin Films Deposited by Atomic Layer Deposition in relation to Growth Temperature
| Autor: | nbsp;JungYup Yang, undefinedKimoon Lee, undefinedYongjei Lee, undefinedHojung Sun, undefinedInseo Kim, Geon Park |
|---|---|
| Rok vydání: | 2023 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | New Physics: Sae Mulli. 73:23-28 |
| ISSN: | 2289-0041 0374-4914 |
| DOI: | 10.3938/npsm.73.23 |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
|