Heißdraht-CVD von Siliziumschichten - Untersuchungen zur Stabilisierung des Abscheideprozesses

Autor:	Laukart, Artur
Rok vydání:	2013
DOI:	10.24406/publica-fhg-279664
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::54136b0cdb16b6ca956992e2c6957045 Zobrazit plný text záznamu