Recent developments in photoresists for extreme-ultraviolet lithography

Autor:	Christopher K. Ober, Florian Käfer, Chenyun Yuan
Rok vydání:	2023
Předmět:	Polymers and Plastics Organic Chemistry Materials Chemistry
Zdroj:	Polymer. 280:126020
ISSN:	0032-3861
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::540df323b9c3e0be3d516fd24bf562fa https://doi.org/10.1016/j.polymer.2023.126020 Zobrazit plný text záznamu Full Text from ScienceDirect