New metrology technique for measuring wafer geometry on a full 300mm silicon wafer
| Autor: | Miriam Velasco-Ocaña, Javier Martín-Hernández, J. M. Trujillo-Sevilla, Álvaro Pérez-García, Alex Roqué-Velasco, Oscar Casanova-González, José Manuel Ramos, Óscar Gómez-Cárdenes, Sabato Ceruso, Jan O. Gaudestad, Ricardo Oliva-García |
|---|---|
| Rok vydání: | 2021 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2021. |
| DOI: | 10.1117/12.2605516 |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
|