Atomic Layer Deposited RuO 2 Diffusion Barrier for Next Generation Ru‐Interconnects
| Autor: | Youn‐Hye Kim, Minsu Kim, Yohei Kotsugi, Taehoon Cheon, Debananda Mohapatra, Yujin Jang, Jong‐Seong Bae, Tae Eun Hong, Rahul Ramesh, Ki‐Seok An, Soo‐Hyun Kim |
|---|---|
| Rok vydání: | 2022 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | Advanced Functional Materials. 32:2206667 |
| ISSN: | 1616-3028 1616-301X |
| DOI: | 10.1002/adfm.202206667 |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
|
Plný text