59.9 mV·dec Subthreshold Swing Achieved in Zinc Tin Oxide TFTs With In Situ Atomic Layer Deposited AlO Gate Insulator

Autor: Tonglin L. Newsom, Christopher R. Allemang, Tae H. Cho, Neil P. Dasgupta, Rebecca L. Peterson
Rok vydání: 2023
Předmět:
Zdroj: IEEE Electron Device Letters. 44:72-75
ISSN: 1558-0563
0741-3106
DOI: 10.1109/led.2022.3219351
Databáze: OpenAIRE