A sensitive positive resist for 0.1-.MU.m electron-beam direct-writing lithography
Autor: | Toshio Sakamizu, Michiaki Hashimoto, Hiroshi Shiraishi, Kohji Katoh, Tadashi Arai |
---|---|
Rok vydání: | 1997 |
Předmět: | |
Zdroj: | Journal of Photopolymer Science and Technology. 10:625-628 |
ISSN: | 1349-6336 0914-9244 |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |