On the Mechanism of the Atomic Layer Deposition of Cu Films on Silicon Oxide Surfaces: Activation Using Atomic Hydrogen and Three-Dimensional Growth
| Autor: | Yunxi Yao, Bo Chen, Francisco Zaera |
|---|---|
| Rok vydání: | 2023 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | Chemistry of Materials. 35:2155-2164 |
| ISSN: | 1520-5002 0897-4756 |
| DOI: | 10.1021/acs.chemmater.2c03789 |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
|