Selectivity Enhancement for Ruthenium Atomic Layer Deposition in Sub‐50 nm Nanopatterns by Diffusion and Size‐Dependent Reactivity
Autor: | Jan Willem J. Clerix, J. Ruud van Ommen, Job Soethoudt, Annelies Delabie, Esteban A. Marques, Fabio Grillo, Geoffrey Pourtois |
---|---|
Rok vydání: | 2021 |
Předmět: | |
Zdroj: | Advanced Materials Interfaces. 8:2100846 |
ISSN: | 2196-7350 |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |