Machine Learning in Advanced IC Design: A Methodological Survey

Autor:	Tinghuan Chen, Grace Li Zhang, Bei Yu, Bing Li, Ulf Schlichtmann
Rok vydání:	2023
Předmět:	Hardware and Architecture Electrical and Electronic Engineering Software
Zdroj:	IEEE Design & Test. 40:17-33
ISSN:	2168-2364 2168-2356
DOI:	10.1109/mdat.2022.3216799
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::4d000c1b4b89d01255ccbadacad56bf6 https://doi.org/10.1109/mdat.2022.3216799 Zobrazit plný text záznamu