Novel dual-mode photoresist based on cationic polymerization and acidolysis

Autor:	Tsuguo Yamaoka, Seongyun Moon, Kazuhiko Naitoh
Rok vydání:	1993
Předmět:	Materials science General Chemical Engineering Materials Chemistry Cationic polymerization Dual mode General Chemistry Photoresist Photochemistry
Zdroj:	Chemistry of Materials. 5:1315-1320
ISSN:	1520-5002 0897-4756
DOI:	10.1021/cm00033a022
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::4c4c73ad849f4f28dbed2ef0b41742a1 https://doi.org/10.1021/cm00033a022 Zobrazit plný text záznamu