Defining Tatian-Zernike polynomials for use in a lithography simulator
Autor: | Ethan Maguire, Rajiv Sejpal, Bruce W. Smith |
---|---|
Rok vydání: | 2023 |
Zdroj: | Optical and EUV Nanolithography XXXVI. |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |
Autor: | Ethan Maguire, Rajiv Sejpal, Bruce W. Smith |
---|---|
Rok vydání: | 2023 |
Zdroj: | Optical and EUV Nanolithography XXXVI. |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |