Defining Tatian-Zernike polynomials for use in a lithography simulator

Autor:	Ethan Maguire, Rajiv Sejpal, Bruce W. Smith
Rok vydání:	2023
Zdroj:	Optical and EUV Nanolithography XXXVI.
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::4afca44cfbc06ccfaa461bd56c7ae5b4 https://doi.org/10.1117/12.2660861 Zobrazit plný text záznamu