ab initio Study of Photochemical Decomposition Mechanism of Triphenylsulfonium Salts for KrF Excimer Laser Exposure

Autor: Yoshikazu Nakazono, T. Hoshino, Minoru Tsuda, Masayuki Rata, Eiichi Aram, Norihito Ohmori
Rok vydání: 1996
Předmět:
Zdroj: Journal of Photopolymer Science and Technology. 9:587-590
ISSN: 1349-6336
0914-9244
DOI: 10.2494/photopolymer.9.587
Databáze: OpenAIRE