ab initio Study of Photochemical Decomposition Mechanism of Triphenylsulfonium Salts for KrF Excimer Laser Exposure
Autor: | Yoshikazu Nakazono, T. Hoshino, Minoru Tsuda, Masayuki Rata, Eiichi Aram, Norihito Ohmori |
---|---|
Rok vydání: | 1996 |
Předmět: | |
Zdroj: | Journal of Photopolymer Science and Technology. 9:587-590 |
ISSN: | 1349-6336 0914-9244 |
DOI: | 10.2494/photopolymer.9.587 |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |