Autor:	Shurong Liang, Amol Gupta, Steven Sherman, Kevin Anglin, Keun Hee Bai, Jong Chul Park
Rok vydání:	2022
Zdroj:	Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XI.
DOI:	10.1117/12.2615043
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::47b9c12489af38a9dfdd051cac0590e6 https://doi.org/10.1117/12.2615043 Zobrazit plný text záznamu