Nanoparticle photoresists from HfO2 and ZrO2 for EUV patterning
Autor: | Markos Trikeriotis, Christopher K. Ober, Brian Cardineau, Robert L. Brainard, Christine Y. Ouyang, Yeon Sook Chung, Marie Krysaki, Kyoungyong Cho, Emmanuel P. Giannelis |
---|---|
Rok vydání: | 2012 |
Předmět: | |
Zdroj: | Journal of Photopolymer Science and Technology. 25:583-586 |
ISSN: | 1349-6336 0914-9244 |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |