Applied Photoelasticity for Residual Stress Measurement inside Crystal Silicon Wafers for Solar Applications

Autor:	Valéry Valle, J.-D. Penot, A. Chabli, F. Jagailloux, Jean-Christophe Dupré
Rok vydání:	2016
Předmět:	Photoelasticity Materials science Silicon Mechanical Engineering Near-infrared spectroscopy chemistry.chemical_element 02 engineering and technology 021001 nanoscience & nanotechnology 01 natural sciences 010309 optics Crystal chemistry Mechanics of Materials Residual stress 0103 physical sciences Wafer Composite material 0210 nano-technology
Zdroj:	Strain. 52:355-368
ISSN:	0039-2103
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::36c9126c902f8bc9767d7542db8b15bf https://doi.org/10.1111/str.12185 Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu PDF Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.