Design of Extreme Ultraviolet Lithographic Objectives

Autor:	杨雄 Yang Xiong, 邢廷文 Xing Tingwen
Rok vydání:	2009
Předmět:	Materials science business.industry Extreme ultraviolet Optoelectronics business Lithography Atomic and Molecular Physics and Optics Electronic Optical and Magnetic Materials
Zdroj:	Acta Optica Sinica. 29:2520-2523
ISSN:	0253-2239
DOI:	10.3788/aos20092909.2520
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::34849f125d2c2c7d2d363116cb21e078 https://doi.org/10.3788/aos20092909.2520 Zobrazit plný text záznamu