Dynamische in situ-Ellipsometrie f�r Grundlagenuntersuchungen und Proze�kontrolle

Autor: K. Riedling
Rok vydání: 1984
Předmět:
Zdroj: Fresenius' Zeitschrift f�r Analytische Chemie. 319:706-711
ISSN: 1618-2650
0016-1152
DOI: 10.1007/bf01226753
Popis: Ellipsometrie eignet sich als beruhrungs- und zerstorungsfreies optisches Verfahren speziell zur Untersuchung von Oberflacheneffekten. Statische ellipsometrische Messungen erlauben aber prinzipiell nur die Ermittlung zweier unbekannter Probenparameter; die Analyse komplexer, aus mehreren oder inhomogenen Schichten bestehender Proben ist damit nicht moglich. Durch wiederholte Messungen in situ wahrend eines Prozesses konnen jedoch auch solche Systeme in „differentiellen“ Schritten analysiert werden. Ein speziell fur in situ-Messungen konzipiertes Ellipsometer mit hoher Mesgeschwindigkeit wird vorgestellt.
Databáze: OpenAIRE
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