Thermodynamic Approach to Diffusion-Controlled Epitaxial Silicon Deposition in Flow System from SiCl4 + H2 Mixtures

Autor:	W. J. Riedl
Rok vydání:	1972
Zdroj:	Kristall und Technik Band 7, Heft 9 ISBN: 9783112653784
DOI:	10.1515/9783112653784-003
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::3028fc126b867d0fbe7df6eb0730f3b1 https://doi.org/10.1515/9783112653784-003 Zobrazit plný text záznamu