Removal of Negative-tone Novolak Chemical Amplification Resist by Chemicals
| Autor: | Hideo Horibe, Hiromitsu Ota, Motonori Yanagi, Kenji Yada, Akihiko Kono |
|---|---|
| Rok vydání: | 2010 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | KAGAKU KOGAKU RONBUNSHU. 36:589-593 |
| ISSN: | 1349-9203 0386-216X |
| Popis: | 炭酸エチレン（Ethylene Carbonate: EC），炭酸プロピレン（Propylene Carbonate: PC）による化学増幅ネガ型ノボラックレジストの除去性を検討した．ネガ型レジストを用いることにより，ポジ型レジストでは困難なレジスト除去時間（レジスト除去速度）を定量的に求めることが可能であることを明らかにした．露光量の増加につれレジストが架橋するため，EC，PCとも除去速度は遅くなった．溶剤温度が同じとき，ECの除去速度はPCのそれに比較し速かった．ECの分子サイズがPCのそれに比較し小さいので，レジストに侵入しやすく溶解させやすいためと考えられる．アレニウス則をEC，PCによるレジスト除去反応に適用することにより，露光量が高いほど，また溶剤の分子サイズが大きいほど，活性化エネルギーが高いことが判明した． |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
|