3.5: Optimization of LTPS‐AMOLED Array Design to Enhance the Resistance to ESD risk
| Autor: | Li Rulong, Xi Wangfeng, Nan Shen, Ma Jiali, Yunlei Lu, Haifeng Lu, Fei Hu, Yu Jin |
|---|---|
| Rok vydání: | 2019 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | SID Symposium Digest of Technical Papers. 50:41-43 |
| ISSN: | 2168-0159 0097-966X |
| DOI: | 10.1002/sdtp.13376 |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
|
Plný text