Microstructure and High Temperature Oxidation Resistance of Si-Al-Y Co-deposition Coatings Prepared on TiAl alloy by Pack Cementation Process
| Autor: | Yong-Quan LI, Fa-Qin XIE, Xiang-Qing WU, Xuan LI |
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| Rok vydání: | 2013 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | Journal of Inorganic Materials. 28:1369-1375 |
| ISSN: | 1000-324X |
| DOI: | 10.3724/sp.j.1077.2013.13091 |
| Popis: | 通过在1050℃下Si-Al-Y扩散共渗0~4 h在TiAl合金表面制备了Al、Y改性的硅化物抗氧化渗层, 分析了共渗层的结构及相组成, 并对其组织形成机理及高温抗氧化性能进行了研究。结果表明: 1050℃共渗4 h所制备的共渗层具有多层结构, 由外向内依次为TiSi 2 外层、(Ti,X) 5 Si 4 及(Ti,X) 5 Si 3 (X表示Nb, Cr)中间层、TiAl 2 和γ-TiAl内层及富Al的过渡层, 其中Y元素主要富集于共渗层的外层和中间层。不同时间共渗的结果表明, Si-Al-Y共渗层的形成是一个在基体表面先沉积Al, 后沉积Si的有序过程。经1000℃高温氧化20 h后共渗层表面形成了由TiO 2 外层及SiO 2 ·Al 2 O 3 次外层组成的致密氧化膜; Y的氧化物主要存在于氧化膜与残余共渗层的界面处, 能够有效地增强膜层的附着力。 |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
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