ChemInform Abstract: Thin Films of Niobium and Niobium Oxides by PECVD

Autor:	L. Deutschmann, Wolfgang A. Herrmann, Harald Suhr, P. Haerter
Rok vydání:	2010
Předmět:	chemistry Plasma-enhanced chemical vapor deposition Niobium chemistry.chemical_element Nanotechnology General Medicine Thin film
Zdroj:	ChemInform. 22
ISSN:	0931-7597
DOI:	10.1002/chin.199145304
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::1e810bb19f746fbf5e261f6d909407c9 https://doi.org/10.1002/chin.199145304 Zobrazit plný text záznamu Plný text