Autor:	P. B. Mumola, G.J. Gardopee, P. J. Clapis, A. M. Ledger, C. B. Zarowin, L.D. Bollinger
Rok vydání:	2005
Předmět:	Materials science Wafer bonding business.industry Plasma etcher Optical materials Analytical chemistry Silicon on insulator Optoelectronics Wafer Plasma business Plasma processing Plasma density
Zdroj:	IEEE International SOI Conference.
DOI:	10.1109/soi.1992.664836
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::1d046e42c59113c386dd61a94d91a8f1 https://doi.org/10.1109/soi.1992.664836 Zobrazit plný text záznamu