Erratum: ‘‘Comparative study between gas- and liquid-phase silylation for the diffusion-enhanced silylated resist process’’ [J. Vac. Sci. Technol. B 9, 3399 (1991)]
Autor: | Bruno Roland, Ki-Ho Baik, L. Van den hove |
---|---|
Rok vydání: | 1992 |
Předmět: | |
Zdroj: | Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures. 10:1229 |
ISSN: | 0734-211X |
DOI: | 10.1116/1.585896 |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |