Morphologic control of wet anisotropic silicon etching

Autor:	唐 彬 Tang Bin, 苏 伟 Su Wei, 姚明秋 Yao Ming-qiu
Rok vydání:	2016
Předmět:	Materials science Dry etching Reactive-ion etching Composite material Anisotropy Silicon etching Atomic and Molecular Physics and Optics Electronic Optical and Magnetic Materials
Zdroj:	Optics and Precision Engineering. 24:350-357
ISSN:	1004-924X
DOI:	10.3788/ope.20162402.0350
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::19655cd85c921a8eb5c2848f27bbb4a0 https://doi.org/10.3788/ope.20162402.0350 Zobrazit plný text záznamu