P x O y Evaporation from SiP2 O 7 and Its Relationship to Phosphosilicate Glass Films
Autor: | J. R. Flemish, R. E. Tressler |
---|---|
Rok vydání: | 1991 |
Předmět: | |
Zdroj: | Journal of The Electrochemical Society. 138:3743-3747 |
ISSN: | 1945-7111 0013-4651 |
DOI: | 10.1149/1.2085492 |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |