Dissolution Inhibition Mechanism of Polymeric Inhibitor in a Novolak Resin Matrix

Autor: Hiroshi Shiraishi, Toshio Sakamizu, Yuko Tsuchiya
Rok vydání: 1996
Předmět:
Zdroj: Journal of Photopolymer Science and Technology. 9:21-24
ISSN: 1349-6336
0914-9244
DOI: 10.2494/photopolymer.9.21
Databáze: OpenAIRE