Low-temperature Si and Si:Ge epitaxy by ultrahigh vacuum/chemical vapor deposition: Process fundamentals
| Autor: | B. S. Meyerson |
|---|---|
| Rok vydání: | 2000 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | IBM Journal of Research and Development. 44:132-141 |
| ISSN: | 0018-8646 |
| DOI: | 10.1147/rd.441.0132 |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
|