High average power XeCl and pulsed HF chemical lasers

Autor:	B. Lacour, H. Brunet, M. Mabru, H. Besaucele
Rok vydání:	1993
Předmět:	Materials science High power lasers Xenon Chloride Lasers law business.industry Optoelectronics Laser business law.invention Electronic circuit Power (physics)
Zdroj:	24th Plasma Dynamics, and Lasers Conference.
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::1644f2d8e3bf67b5486d737c01a60b11 https://doi.org/10.2514/6.1993-3165 Zobrazit plný text záznamu