Low-Frequency Noise in Submicrometer MOSFETs With HfO$_2$, HfO$_2/hbox Al_2hbox O_3$and HfAlO$_x$Gate Stacks

Autor:	B. Min, S.P. Devireddy, Z. Celik-Butler, F. Wang, A. Zlotnicka, H.-H. Tseng, P.J. Tobin
Rok vydání:	2004
Předmět:	Electrical and Electronic Engineering Electronic Optical and Magnetic Materials
Zdroj:	IEEE Transactions on Electron Devices. 51:1679-1687
ISSN:	0018-9383
DOI:	10.1109/ted.2004.835982
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::142fdf46df6d4105c4acf13dc89e2d7f https://doi.org/10.1109/ted.2004.835982 Zobrazit plný text záznamu