Effect of Composition on Resist Dry-Etching Susceptibility

Autor:	M. A. Schmidt, J. N. Helbert
Rok vydání:	1982
Předmět:	chemistry.chemical_classification Materials science chemistry Chemical engineering Resist Composition (visual arts) Polymer Dry etching
Zdroj:	ACS Symposium Series ISBN: 9780841207158 Polymer Materials for Electronic Applications
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::12755a93cc21ecfc67961feca1a8e8cf https://doi.org/10.1021/bk-1982-0184.ch005 Zobrazit plný text záznamu