Numerical Simulation of CVD Reactor for Oxide Semiconductor Layer Deposition

Autor:	Roman Kleimanov, Andrey Korshunov, Anastasia Kondrateva, Platon Karaseov, Maxim Mishin, Yakov Enns, Ivan Komarevtsev
Rok vydání:	2022
Zdroj:	Springer Proceedings in Physics ISBN: 9783030811181
DOI:	10.1007/978-3-030-81119-8_24
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::1264e6c9bee83fb83574078aeae5b9cc https://doi.org/10.1007/978-3-030-81119-8_24 Zobrazit plný text záznamu