New t-BOC blocked polymers for advanced lithographic applications
Autor: | Georg Pawlowski, Ralph R. Dammel, Walter Spiess, Horst Röschert, Klaus-Jürgen Przybilla |
---|---|
Rok vydání: | 1991 |
Předmět: | |
Zdroj: | Journal of Photopolymer Science and Technology. 4:421-432 |
ISSN: | 1349-6336 0914-9244 |
DOI: | 10.2494/photopolymer.4.421 |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |