Ultrathin atomic layer deposited niobium oxide as a passivation layer in silicon based photovoltaics
| Autor: | Connor J. Leach, Benjamin E. Davis, Ben M. Garland, Ryan Thorpe, Nicholas C. Strandwitz |
|---|---|
| Rok vydání: | 2021 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | Journal of Applied Physics. 130:215301 |
| ISSN: | 1089-7550 0021-8979 |
| DOI: | 10.1063/5.0067281 |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
|