Non-Contact Cleaning Process for Post-CMP Copper

Autor:	Daniel A. Koos, Julia Svirchevski, Daniel J. Vitkavage, David G. Hansen, Karen A. Reinhardt, Frank Huang, Marie Mitchel, Guang Ying Zhang
Rok vydání:	2005
DOI:	10.4028/3-908451-06-x.291
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::0378c33a262b84120e16f770289e24c9 https://doi.org/10.4028/3-908451-06-x.291 Zobrazit plný text záznamu