Atomic Layer Etching: Directional
Autor: | Thorsten Lill, Samantha Tan, Meihua Shen, Eric Hudson, Keren J. Kanarik, Richard A. Gottscho, Pan Yang, Jeffrey Marks, Vahid Vahedi |
---|---|
Rok vydání: | 2016 |
Předmět: | |
Zdroj: | Encyclopedia of Plasma Technology ISBN: 9781482214314 |
DOI: | 10.1081/e-eplt-120053939 |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |