Role of a Mo interlayer on the thermal stability of nickel silicides

Autor:	Y. W. Ok, C. Thanachayanont, Tae Yeon Seong, C. J. Choi
Rok vydání:	2018
Předmět:	Nickel Materials science chemistry Metallurgy chemistry.chemical_element Thermal stability
Zdroj:	Microscopy of Semiconducting Materials 2003 ISBN: 9781351074636
DOI:	10.1201/9781351074636-109
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::015dce2d69229ef3f48cccb09de8b3f0 https://doi.org/10.1201/9781351074636-109 Zobrazit plný text záznamu