Evaluation of Resist Capability for EUV Lithography
Autor: | Junichi Onodera, Atsuko Yamaguchi, Hiroaki Oizumi, Daiju Shiono, Hideo Hada, Taku Hirayama, Yuusuke Tanaka, Iwao Nishiyama |
---|---|
Rok vydání: | 2006 |
Předmět: | |
Zdroj: | Journal of Photopolymer Science and Technology. 19:507-514 |
ISSN: | 1349-6336 0914-9244 |
DOI: | 10.2494/photopolymer.19.507 |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |