High UV-sensitive and etch resistant material for UV-Nanoimprint
| Autor: | Voisin, P., Zelsmann, M., Cluzel, R., Gourgon, C., Boussey-Said, J. |
|---|---|
| Přispěvatelé: | Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Clot, Marielle, Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS) |
| Jazyk: | angličtina |
| Rok vydání: | 2006 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | Micro-and Nano-Engineering conference-MNE 2006 Micro-and Nano-Engineering conference-MNE 2006, 2006, barcelone, Spain |
| Popis: | International audience |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
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