A Study on the Chemistry of Epitaxial Ti3SiC2 Formation on 4H-SiC Using Al-Ti Annealing

Autor: Abi-Tannous, Tony, Soueidan, Maher, Ferro, Gabriel, Lazar, Mihai, Toury, Berangère, Beaufort, Marie-France, Barbot, Jean François, Penuelas, Jose, Planson, Dominique
Přispěvatelé: Ampère, Département Energie Electrique (EE), Ampère (AMPERE), École Centrale de Lyon (ECL), Université de Lyon-Université de Lyon-Université Claude Bernard Lyon 1 (UCBL), Université de Lyon-Institut National des Sciences Appliquées de Lyon (INSA Lyon), Université de Lyon-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut National de Recherche pour l’Agriculture, l’Alimentation et l’Environnement (INRAE)-École Centrale de Lyon (ECL), Université de Lyon-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut National de Recherche pour l’Agriculture, l’Alimentation et l’Environnement (INRAE), Laboratoire des Multimatériaux et Interfaces (LMI), Université Claude Bernard Lyon 1 (UCBL), Université de Lyon-Université de Lyon-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Institut Pprime (PPRIME), Université de Poitiers-ENSMA-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), INL - Hétéroepitaxie et Nanostructures (INL - H&N), Institut des Nanotechnologies de Lyon (INL), Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut National des Sciences Appliquées de Lyon (INSA Lyon), Université de Lyon-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Université de Lyon-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-École Centrale de Lyon (ECL), Université de Lyon-Université Claude Bernard Lyon 1 (UCBL), Université de Lyon-École supérieure de Chimie Physique Electronique de Lyon (CPE)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut National des Sciences Appliquées de Lyon (INSA Lyon), Université de Lyon-École supérieure de Chimie Physique Electronique de Lyon (CPE)
Jazyk: angličtina
Rok vydání: 2015
Předmět:
Zdroj: Materials Science Forum
Materials Science Forum, Trans Tech Publications Inc., 2015, 821-823, pp.432-435. ⟨10.4028/www.scientific.net/MSF.821-823.432⟩
ISSN: 0255-5476
1662-9760
Popis: International audience; In order to form Ti3SiC2 on 4H-SiC(0001) 8°-off, 200 nm of Ti30Al70 was deposited onto SiC substrates by magnetron sputtering from pure Ti30Al70 targets. The samples were then annealed at 1000°C for 10 min under Ar atmosphere in a Rapid Thermal Annealing (RTA) furnace. Structural analyses reveal the formation of epitaxial hexagonal Ti3SiC2 (0001) oriented. Elemental analyses show that high amount of Al and O elements are present inside the deposit. Obviously, the formation of Ti3SiC2 is accompanied by parasitic Al oxide, probably due to some unwanted oxygen residual in the RTA chamber. By using proper backing steps before the annealing, the deposit is not anymore composed of only Ti3SiC2 but accompanied with other compounds (Al3Ti, and Al). On the oxide-free sample, the specific contact resistance ρc of the Ti3SiC2 based contact on p-type 4H-SiC (having Na= 2×1019 cm-3) was measured to be as low as 6×10-5 Ω.cm2.
Databáze: OpenAIRE
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