High Resolution Negative Chemically Amplified Resists (CARs) for E-Beam lithography: the impact of CARs compounds on lithographic properties

Autor:	Gourgon, C., Pain, L., Higgins, C., Scarfoglière, B., Mollard, L., Dalzotto, B., Tedesco, S., Ribeiro, M., Hanawa, R., Kusumoto, T., Suetsugu, M.
Přispěvatelé:	Clot, Marielle, Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
Jazyk:	angličtina
Rok vydání:	2000
Předmět:	ComputingMilieux_MISCELLANEOUS
Zdroj:	12th International Conference on Photopolymers, Mc Afee 2000 12th International Conference on Photopolymers, Mc Afee 2000, 2000, Mc Afee, United States
Popis:	International audience
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::deebd5ed5731be363a9dde63060269d1 https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-00390366 Zobrazit plný text záznamu