Roughening of porous SiCOH materials in fluorocarbon plasmas

Autor:	Bailly, F., David, T., Chevolleau, T., Darnon, Maxime, Posseme, N., Bouyssou, R., Ducote, J., Joubert, O., Cardineau, C.
Přispěvatelé:	Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)
Jazyk:	angličtina
Rok vydání:	2011
Předmět:	ComputingMilieux_MISCELLANEOUS
Zdroj:	Journal of Applied Physics Journal of Applied Physics, American Institute of Physics, 2011, pp.108, June 2010, 014906
ISSN:	0021-8979 1089-7550
Popis:	International audience
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::ded5693f15ca4026dcb8d7024445be69 https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-00625289 Zobrazit plný text záznamu