Patterning of porous SiOCH: metallic and organic hard mask strategies

Autor:	Ducote, J., David, T., Possémé, N., Chevolleau, T., Verove, C., Barbe, J.C., Inglebert, R.L., Joubert, O.
Přispěvatelé:	Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Clot, Marielle, Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
Jazyk:	angličtina
Rok vydání:	2009
Předmět:	ComputingMilieux_MISCELLANEOUS
Zdroj:	Plasma Etch and Strip in Microelectronics (PESM), 2nd International Workshop Plasma Etch and Strip in Microelectronics (PESM), 2nd International Workshop, Feb 2009, leuven, Belgium
Popis:	International audience
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::dd1e59b106d7a2e8fdd0d31a9a8a02cb https://hal.science/hal-00399793 Zobrazit plný text záznamu